沈阳东创节能-银粒生产加工-抚顺银粒

对圆周方向的电阻值的不均匀依然无法---。

此外，银粒生产加工，采用连续---法时，如果---时的热传递没有设法尽量达到均匀，则挤压后的---速度不一致，这样可能电阻值的不均匀程度反而大于间歇式---法。---是在圆周方向上这种倾向更---。

采用连续---法时，在挤压机的挤压筒内的半径方向上有非常大的剪切速度分布，这可能会影响电子导电性填充剂的分散。

在所有应用产业中，半导体产业对靶材溅射薄膜的品质要求是苛刻的。如今12英寸（300衄口）的硅晶片已制造出来．而互连线的宽度却在减小。硅片制造商对靶材的要求是大尺寸、高纯度、低偏析和细晶粒，这就要求所制造的靶材具有---的微观结构。靶材的结晶粒子直径和均匀性已被认为是影响薄膜沉积率的关键因素。另外，薄膜的纯度与靶材的纯度关系---，过99.995%（4n5）纯度的铜靶，或许能够满足半导体厂商0.35pm工艺的需求，但是却无法满足如今0.25um的工艺要求。