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溅射靶材ito靶材的生产工艺 ito靶材的生产工艺可以分为3种:热等静压法(hip)、溅射靶材热压法(hp)和气氛烧结法。各种生产工艺及其特点简介如下:
热等静压法:ito靶材的热等静压制作过程是将粉末或预先成形的胚体,在800℃~1400℃及1000kgf/cm 2~2000kgf/cm 2的压力下等方加压烧结。热等静压工艺制造产品密度高、物理机械性能好,但设备投入高,生产成本高,产品的缺氧率高。







尼龙刷毛制成单片刷套,将单片刷套组合,并压合在刷辊辊轴上,由键和两端的端板固定后,银圆柱靶厂家,对尼龙刷毛外圆周进行整体车削。具有结构简单、设计合理、使用---的特点可增加在刷辊辊轴有效长度上单片刷套安装数量 10%左右,进而能够高密度填充刷毛,提高了清洗。整体刷辊组装后对尼龙刷辊外圆进行整体修整磨光提高刷辊平衡度延长使用周期。

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在储存技术方面,高密度、大容量硬盘的发展,需要大量的巨磁阻薄膜材料,cof~cu多层复合膜是如今应用广泛的巨磁阻薄膜结构。磁光盘需要的tbfeco合金靶材还在进一步发展,用它制造的磁光盘具有存储容量大,哪里有银圆柱靶,---,可反复无接触擦写的特点。如今开发出来的磁光盘,河南银圆柱靶,具有tbfeco/ta和tbfeco/al的层复合膜结构,tbfeco/ai结构的kerr旋转角达到58,而tbfecoffa则可以接近0.8。经过研究发现,低磁导率的靶材高交流局部放电电压l抗电强度。

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