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磁控溅射靶材种类：金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材，---物陶瓷溅射靶材，氮化物陶瓷溅射靶材，氧化物陶瓷靶材，纯银零部件价格，硒化物陶瓷溅射靶材，硅化物陶瓷溅射靶材，---物陶瓷溅射靶材，碲化物陶瓷溅射靶材，其他陶瓷靶材，纯银零部件生产加工，掺铬一氧化硅陶瓷靶材（cr-sio），磷化铟靶材（inp），铅靶材（pbas），纯银零部件，铟靶材（inas）。

镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的---破坏效应。例如：蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜、铝膜等。更换不同的靶材（如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。