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绑定的适用范围
技术上来说表面平整可进行金属化处理的靶材都可以用我司铟焊绑定技术绑定铜背靶来提高溅射过程的散热性、提高靶材利用率。
建议绑定的靶材:
ito、sio2、陶瓷脆性靶材及烧结靶材;
锡、铟等软金属靶;
靶材太薄、靶材太贵的情况等。
但下列情况绑定有弊端:
1.熔点低的靶材,像铟、硒等,纯银零部件报价,金属化的时候可能会变软变形;
2.---靶材,一是实际重量易出现分歧,二是金属化以及解绑的时候都会有浪费料,建议垫一片铜片。







各种类型的溅射薄膜材料在半导体集成电路(vlsi)、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等方面都得到了广泛的应用。20世纪90年代以来,溅射靶材及溅射技术的同步发展,---地满足了各种新型电子元器件发展的需求。例如,在半导体集成电路制造过程中,以电阻率较低的铜导体薄膜代替铝膜布线。
在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场,在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为ar气),磁铁在靶材料表面形成250~350高斯的磁场,同高压电场组成正交电磁场。

采用连续式---法的情况下,不会有因切去加压成形产生的毛边或一般的挤压处理和在---处理槽内进行处理时橡胶管两端翘起的部分而导致的橡胶浪费,另外能够缩短制造时间和减少人工费用,纯银零部件,因此能够降低辊筒的制造成本,纯银零部件厂家,从这些方面考虑,此方法优于间歇式---法。

此外,---处理后,由于对每个辊筒都进行了剪切,所以基本上不会出现上述差别,这样就可---长度方向的电阻值的不均匀。
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