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    2024-6-4

赵总
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 溅射靶材ito靶材的生产工艺 ito靶材的生产工艺可以分为3种:热等静压法(hip)、溅射靶材热压法(hp)和气氛烧结法。各种生产工艺及其特点简介如下:

 热等静压法:ito靶材的热等静压制作过程是将粉末或预先成形的胚体,在800℃~1400℃及1000kgf/cm 2~2000kgf/cm 2的压力下等方加压烧结。热等静压工艺制造产品密度高、物理机械性能好,但设备投入高,生产成本高,产品的缺氧率高。

















此外,---靶材,使用混入了导电性填充剂的电子导电性橡胶的导电辊,其电阻值与施加的电压有关,存在电阻值不固定的问题。---是采用碳黑作为导电性填充剂时,---靶材多少钱,这些倾向更明显。



由于使用了电子导电性橡胶的导电辊,不论是采用间歇式制法还是连续---处理法,都存在电阻值不均匀的问题,---靶材技术,所以在数字化、彩色化等提高图像的技术日新月异的今天,希望用离子导电性橡胶替代电子导电性橡胶。



溅射技术:溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速---,而形成高速度能的离子束流,---靶材加工,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是制备溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。





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